子法草案規範 研發費用60億元、研發密度6％ 購置先進製程設備須達百億元
記者陳建興∕台北報導
有台版晶片法之稱的產創條例第十條之二，經過經濟部、財政部兩部會密切協商後，並考量國家關鍵產業發展及稅制穩定，子法草案在一日對外預告三十天；其中，草案規範，以研發費用達新台幣六十億元、研發密度達百分之六、購置用於先進製程設備支出達一百億元等條件做為申請門檻，盼能鼓勵公司深耕台灣，加碼投資。
「產業創新條例第十條之二及第七十二條條文修正案」俗稱「台版晶片法」，針對半導體、電動車、５Ｇ等技術創新且居國際供應鏈關鍵地位公司，提供前瞻創新研發支出的百分之二十五，抵減當年度應納營利事業所得稅額，並得以購置用於先進製程的全新機器或設備支出的百分之五，抵減當年度應納營所稅額，且該機器或設備支出不設定金額上限。
企業適用要件包含當年度研發費用、研發密度（研發費用占營收比率）達一定規模，且有效稅率達一定比率。
其中，為因應經濟合作暨發展組織國家最低稅負制調整，其中有效稅率門檻，民國一一二年訂為百分之十二，一一三年料將提高至百分之十五，但仍得審酌國際間最低稅負制實施情形。
財政部長莊翠雲指出，產創十之二主要是為強化台灣產業在國際的競爭力，讓在國際供應鏈居關鍵地位的台灣企業，能獲得租稅獎勵，財政部與經濟部近來也持續密切協商產創十之二子法規內容。
經濟部則表示，為廣納意見，歡迎各界先進於草案預告期間提供寶貴意見，經濟部將舉辦產業座談會，說明子法相關條文內容與意見交流，綜整各界意見後，將盡快與財政部會銜發布，以利公司明年可開始申請適用。
