透過AI推進2奈米 台積電、輝達和新思聯手

記者陳建興∕台北報導

輝達宣布，台積電和新思科技使用輝達的運算式微影平台投入生產，透過生成式人工智慧（ＡＩ）提升ｃｕＬｉｔｈｏ平台價值，加速製造並突破先進半導體晶片物理極限，開發二奈米及更先進技術。

輝達去年推出ｃｕＬｉｔｈｏ，台積電及新思科技已將ｃｕＬｉｔｈｏ整合至軟體、製造流程和系統中，以加快晶片製造。輝達執行長黃仁勳說，運算式微影是晶片製造的基石，輝達與台積電和新思科技合作，將ｃｕＬｉｔｈｏ應用於加速運算和生成式ＡＩ開拓半導體微縮的新領域。

台積電總裁魏哲家說，台積電與輝達合作，將繪圖處理器（ＧＰＵ）加速運算整合到工作流程中，使得效能大幅躍升、顯著提高生產率、縮短週期時間以及降低功耗需求。台積電正在將輝達ｃｕＬｉｔｈｏ投入生產，利用這一運算式微影技術驅動半導體微縮的關鍵組件。

新思科技則表示，與台積電和輝達合作對於實現埃米等級的微縮至關重要；在ｃｕＬｉｔｈｏ軟體庫上執行新思科技Ｐｒｏｔｅｕｓ光學鄰近修正（ＯＰＣ）軟體，可顯著加快運算工作負載。